超声雾化喷涂

利用超声波雾化技术，将液体雾化成细小的液滴，在气流带动下，在物质表面形成液体薄膜。可以在平坦表面或者沟槽表面（一般的旋涂工艺无法制备）制备薄膜，达到很高的均匀性，其主要用于高分子材料薄膜的制备。如用于IC制造的光刻胶薄膜、石墨烯薄膜、MEMS微结构薄膜等制备。

超声雾化喷涂的关键设备为超声雾化喷嘴，本项目来源于国家重大专项02专项，喷嘴主要用于实现光刻胶喷涂的均匀性，高频率的喷嘴设计制造技术目前仅美国Seno-tek公司掌握。要突破此技术主要需攻克3方面的难点：

1）突破超声雾化喷嘴振动系统的设计方法和制造技术。

2）突破雾化光刻胶液滴在载气作用下的雾锥特性和光刻胶雾化液滴的输运流模型。

3）弄清光刻胶雾化雾锥特性、工艺参数等因素与膜厚均匀性的影响关系，指导光刻胶薄膜制备工艺。

目前，团队已经完全掌握以上技术，喷嘴可达到以下性能指标：

1）喷嘴的谐振频率可达120KHz；

2）光刻胶液滴长度平均粒径18μm,膜厚均匀性±3%。

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